【微纳加工技术讲座】蔡司显微技术专场
2017-05-22 17:07:26    点击:

微纳加工技术讲座主要邀请国内外知名企业及微纳加工领域的同行分享行业内的最新技术进展,分享成功技术案例,建立技术服务与用户之间的沟通桥梁,提升我校的微纳加工整体水平。

报告时间:5月24日(周三)下午2:00

报告地点:西区特种实验楼2楼报告厅

本期报告为蔡司显微技术专场,邀请卡尔蔡司显微镜业务部资深技术专家为广大师生带来三场主题报告:

报告一:ORION Nanofab 氦离子显微镜——高分辨率成像与亚10nm级加工的全方位半导体样品解决方案

摘要:ORION Nanofab显微镜可以实现高效、高精度的亚10nm级结构的加工, 是全球唯一的集镓、氖、氦三种离子束为一体的成像加工平台,覆盖了微米到纳米尺度的成像与加工应用。借助其0.5nm成像分辨率,它可在同一台加工仪器中实现样品的高分辨率成像。电荷补偿技术令其在半导体和非导电样品成像中更胜一筹。其高精度加工与高分辨成像能力能够满足新型半导体材料、芯片、存储、太阳能等领域的研发与检测需求。

报告二:蔡司 X射线显微镜在三维微纳分析中的应用 ——高分辨、无损、3D成像分析手段

摘要:蔡司Xradia 510 Versa显微镜是3D X射线成像技术的领导者,是一套拥有出色灵活性的高分辨无损3D成像系统。本次报告将介绍蔡司X射线显微镜的核心技术优势,并介绍其在电子半导体领域、材料科学领域、地球科学领域及生命科学领域等的典型应用。

报告三:蔡司GeminiSEM 500——高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜

摘要:蔡司GeminiSEM 500 将创新的电子光学设计与 Gemini 技术相结合,低电压模式下也能获得较好的分辨率。 500V 电压下能够获取 1.2 nm分辨率,在1KV 下能够获取 1.1 nm分辨率, 选配的样品台减速模式下1KV 下能获取0.9 nm 的分辨率。以20倍高的 in-lens 检测信号,可以快速获得锐利的图像并将对样品的损伤降至尽可能低。