反射式光谱膜厚仪 SRM300-M200
2014-04-14 14:34:08    点击:

Applications应用:

Measure film thickness and refractive index up to 5 layers.

可以测量最大5层重叠薄膜的厚度和折射率。

Applications include transparent and semi-transparent films such as oxide, nitride, photo-resist, ITO, polyimide and thin films of semiconductors.

可测量如氧化物,氮化物,光阻,导电玻璃,聚合物和半导体薄膜等透明或半透明薄膜。

Key technical parameter主要技术指标参数:

Thickness range: 20nm to 150um for typical dielectrics.

对特定的介电质测量厚度范围20纳米到150微米。

Thickness accuracy:<1% of film thickness, typical.

对特定的材料厚道测量精度小于厚度的百分之一。

Wavelength range: 350nm to 1450nm

测量波长范围350纳米到1450纳米。

Automatic wafer mapping with motorized sample stage for wafers up to 200mm.

自动测量点定位的功能,电机驱动的样品台最大可满足直径200毫米样品使用。

Comprehensive optical constants database and library.

有完备的光学参数数据库可供调用。