各位用户：
为进一步提高工艺能力，中心新采购了磁控溅射（Kurt J. Lesker，PVD75 Proline）和电子束蒸发（Kurt J. Lesker，PVD75 Proline）。
Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。磁控溅射就是利用在溅射粒子中中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。主要应用于制备光学膜、各种功能性薄膜--高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜。
电子束蒸发是利用高能量电子束对蒸发物料进行电子轰击加热，使得蒸发材料达到沸点后挥发并沉积到样品表面，沉积成薄膜材料 。主要用于金属薄膜的沉积。
现这两台设备已开放代工服务，欢迎广大用户申请使用。
微纳研究与制造中心
2019年3月6日
