品牌型号： JEOL，6300FS
主要功能：
电子束光刻技术是利用纳米电子束斑在光刻胶上扫描，
改变光刻胶的显影特性，可获得纳米级分辨率的图形结构。
技术指标：
套刻精度： 在高精度模式下小于±20nm
拼接精度： 在高精度模式下小于±20nm
束流： 30pA至20nA
束斑： 在高精度模式下小于3nm
扫描时钟频率： 50MHZ
扫描区域： 150mm×150mm
扫描最小步长： 高精度模式下0.125nm
　　　　　　　高速模式下1nm
写场尺寸： 高精度模式下62.5μm×62.5μm
　　　　　高速模式下500μm×500μm
电子束曝光辅助软件： Beamer

免审核工艺：

1、基本要求：样品兼容洁净室环境；

2、允许沉底范围：硅、石英、氮化硅、砷化镓、蓝宝石等标准晶圆（6寸、4寸、3寸、2寸），以及10mm*10mm碎片。衬底上可以有金属层、石墨烯等材料。以上样品厚度不得超过夹具表面。

3、禁止以下任何样品：含有粉尘、挥发性物质、腐蚀性化学、生物活性、油污性以及影响真空的样品。

4、首次独立操作设备为非免审核工艺，须提交设备预约单并由工程师陪同操作。