中文名:纳米压印系统
英文名:Nano Imprint Lithography
所属机组:光刻组
仪器型号:Obducat Eitre6
房间:一楼洁净间
负责人:刘文


主要功能
本设备可以实现微米和纳米尺度图形结构的复制加工,采用单面气压方式,有力保证了压印的均匀性,减少碎片的发生。中间聚合物转印(IPS)则可以最大程度保护原始模具,延长使用寿命。
技术指标
最高温度: 200℃
最大压力: 70 Bar
LED UV波长/光强:
365±10 nm/35~45mW/cm2
样品尺寸: 最大6英寸
衬底/模板厚度: 最大2mm
对准精度: ±1μm
残胶厚度: <20 nm