主要功能：
无掩膜直写光刻设备基于先进的第二代光刻直写技术,通过空间光调制器扫描技术实现直写光刻。在应用中省去了繁琐的掩膜加工步骤，相比单束直写具有效率高、技术先进、应用灵活等特点。
技术指标：
工作波长： 405 nm
分辨率： 0.9 μm
对准精度： ±0.6 μm
扫描速度： 30-420 mm2/min
样品尺寸： 最大6英寸
具有灰度曝光功能

免审核工艺：

1.基本要求：

兼容洁净室环境；禁止以下任何样品：含有粉尘、挥发性物质、腐蚀性化学品、生物活性、油污性。

2.样品要求：