主要功能：
用于沉积高质量、台阶覆盖性优异的纳米级薄膜，也可用于沉积抗粘附层。
技术指标：
样品尺寸： 最大8寸
沉积脉冲周期： ＜2s(Al2O3)
工艺温度： ＜500℃
前驱源管路： 6套独立管路
前驱源： 三甲基铝、四氯化钛、
　　　　四（甲乙胺基）铪、
　　　　三二甲氨基硅烷、
沉积材料： 氧化硅、氧化铝、氮化钛等