主要功能：

显影系统是一种用于半导体显影的台面式设备，通过高压N2将压力罐中显影液输送至管路中，配合样品台旋转，均匀的喷洒在样品表面，可以保证显影工艺的稳定性和均匀性，适用于电子束光刻和紫外光刻的光刻胶。

技术指标：

转动速度：0-10,000rpm

旋涂加速度：0-50,000rpm/sec

样品尺寸：最大 8英寸

工艺时间:0-3,000 sec/step

免审核工艺：

1.基本要求：
样品兼容洁净室环境;禁止以下任何样品：含有粉尘、挥发性物质、腐蚀性化学品、生物活性、油污性的样品。

2.样品尺寸尺寸：

允许样品尺寸：碎片、2寸、3寸、4寸、6寸

3.常规电子束光刻胶：

PMMA、MMA、ARP6200、MaN2403、HSQ