主要功能:
通过无水乙醇的催化作用,气态的HF与二氧化硅反应生成可挥发的SiF4和气态Water,并通过真空抽走,整个反应过程不生成液态水,避免了液体对悬空微纳结构的粘连。主要用于悬臂梁以及其他悬空微纳米结构的释放。
技术指标:
刻蚀速率:100/min—1000/min
HF气体流量:0-500 SCCM
无水乙醇气体流量:0-250 SCCM
工艺氮气流量:0-2000 SCCM
刻蚀均匀性:<12%
主要功能:
通过无水乙醇的催化作用,气态的HF与二氧化硅反应生成可挥发的SiF4和气态Water,并通过真空抽走,整个反应过程不生成液态水,避免了液体对悬空微纳结构的粘连。主要用于悬臂梁以及其他悬空微纳米结构的释放。
技术指标:
刻蚀速率:100/min—1000/min
HF气体流量:0-500 SCCM
无水乙醇气体流量:0-250 SCCM
工艺氮气流量:0-2000 SCCM
刻蚀均匀性:<12%