基本原理和应用:
等离子体清洗机适用于等离子清洗、活化以及去胶等多种应用。高效的操作界面可以帮助使用者使用自动或手动模式运行多种等离子工艺,并兼具强大的工艺菜单编辑、系统参数设定和工艺数据读取等功能。
设备技术指标:
• RF电源:13.56MHz,最大500W;
• 电极数量:2层;
• 气路:Ar O2;
• 样品尺寸:最大8寸。
基本原理和应用:
等离子体清洗机适用于等离子清洗、活化以及去胶等多种应用。高效的操作界面可以帮助使用者使用自动或手动模式运行多种等离子工艺,并兼具强大的工艺菜单编辑、系统参数设定和工艺数据读取等功能。
设备技术指标:
• RF电源:13.56MHz,最大500W;
• 电极数量:2层;
• 气路:Ar O2;
• 样品尺寸:最大8寸。