主要功能：

光刻胶图形化，可正、背面对准曝光

技术指标：

• 样品尺寸：2  、3  、4  、6 及不规则小片

• 最大光强： 66mw/cm2 @ 365nm，145mw/cm2 @ 405nm

• 曝光模式：真空，硬接触，软接触，接近式

• 最小线宽：0.8μm（i线，真空模式），3μm (i线，Gap 20um，接近模式)

• 对准精度：TSA 0.5μm ， BSA 1.0μm

• 均匀性：2% over 6 diameter

 

双层胶工艺

叉指电极

SU8微流控模板