【注：以下所提到的掩模、板均为光刻使用的光掩模，非其他工艺使用的硬质掩模等】
一、 掩模板尺寸及版图图形范围
目前中心常备的成品掩模板尺寸有两种，一种是2.5英寸的苏打玻璃板材(2506型)，一种是5英寸苏打玻璃板材（5009型），均为表面金属膜层厚度100nm，胶厚500nm。另外3英寸的苏打玻璃板材(3006型)，7英寸（7012型）需要采购。
由于掩模板生产实际及制版曝光原理的要求，要求图形要比掩模板的尺寸小，经验值如下：
Ø 2.5英寸版图设计图形范围应≤58mm×58mm
Ø 5英寸版图设计图形范围应≤118mm×118mm
Ø 3英寸版图设计图形范围应≤68mm×68mm
Ø 7英寸版图设计图形范围应≤150mm×150mm
在实际使用过程中，除了2.5英寸或者3英寸掩模板方便移位、粘贴使用，其他掩模板不建议把图形设计的过于靠边。例如，通常2.5英寸或者3英寸掩模板匹配2英寸晶圆或者碎片，5英寸掩模板匹配4英寸晶圆，7英寸掩模板匹配6英寸晶圆，设计的图形范围比晶圆略大一些即可，过于靠近边缘会影响实际使用。
二、 版图的极性及版图与掩模板翻转对称
版图的极性有正、负性，明、暗版，亮、暗场，正、反图等多种说法，在不同的资料中可能有不同的描述，我们一般认为：
明场： 掩模板上需要转移到晶圆光刻胶上的图形区域是不透明的（不透光），而周围的背景区域是透明的；
暗场： 掩模板上需要转移到晶圆光刻胶上的图形区域是透明的（挡光），而周围的背景区域是不透明的。
2.5英寸明场掩模 5英寸暗场掩模
而在实际的情况中，由于中心用户涉及到研究的各个领域，需求各异，版图设计的最后用处中心工程师也无法一一核实，无法准确判断。
默认 ：提供至中心制版的版图中由封闭线围成的有面积的图形区域（即在绘图软件中是阴影填充的区域）是掩模板上的曝光区域，后续会是透光区域，即在样品上曝光的图形。且加工的图形在掩膜版的金属面，曝光时玻璃面朝上，从玻璃面看存在左右镜像。
中心将不再核实明场暗场等的极性描述
掩模板制作时，是将版图图形利用光学镜头直写在掩模板的胶层上，最后在金属层形成光掩模图形，而在使用掩模板进行掩模曝光的时候，图形面是与晶圆光刻胶面相对的，所以实际曝光在晶圆上的图形是绘制版图左右镜像翻转的结构。
设计的版图 掩模板金属面图形 晶圆上最终图形
根据以往案例，为避免由于图形造成的板材、机时浪费以及不必要的纠纷，统一不再对用户提供的图纸进行极性反转和镜像翻转，以及其他平移、调整、切换等操作，请用户提交图纸前自行调整好极性、镜像及布局！
三、 制版设备及图纸
中心默认制版设备为Maskless-Lithography-ATD1500，最小线宽为1μm（孤立线条），圆孔、密集线等除外），通常误差不大于±0.3μm（与图形曝光面积相关），考虑制版过程中曝光剂量、显影时间、刻蚀时间等参数对线宽均有影响，无法准确控制版上线宽，因此用户需要后续光刻胶工艺（正胶、负胶），在设计图上可能需要做大或者做小图形线宽。
1μm的线宽基本也是接近中心接触式曝光设备的性能极限，不建议设计的更小。
如需要更小线宽的图形或其他特殊需求，请与中心工程师联系，沟通了解其他设备是否可以满足需求。
ATD1500设备只读取GDS2格式的图纸（*.gds,*GDS），如有OASIS（*.oas，*.OAS）DXF（*.dxf，*.DXF）等其他格式图纸，请使用相关软件另存为*.gds拓展名。另外DXF转GDS2时，会出现不封闭线条，使得图形没有有效面积仅有线框，也是无法读取曝光的。
版图图纸通常有多层，如需曝光在一块板上的结构请合并到同一层上，默认一个图层制一块板。
Cell的选择也是版图曝光过程中容易出问题的地方。一般一个图只会显示一个主Cell的图形，如果有多个平行层级的Cell，一般软件只会有一个高亮Cell，即显示出来的Layout布局，而在制版过程中曝光的也是这个cell，同时，制版过程中无法识别主Cell下的子Cell，且无法切换。因此需要对版图进行flatten操作后，检查无误后，再提交版图。即制版设备只能识别在Layout中显示出来的高亮主Cell图形。
四、 其他常见问题
1.GDS2图纸本质是在平面坐标系下记录的坐标形成多边形面积，故图形中点的数量越多图纸的占用空间越大，而圆结构和弧结构经过阵列后的图形数量会更多，建议减小阵列或减少多边形的结构点数。建议图纸在平面化所有的cell之后，将图纸储存空间控制在200M以内，因曝光微镜读取的数据都是平面化之后的数据，如果过大会卡死微镜，造成设备故障。
同时，没有flatten的子cell容易在图纸中的相应位置形成“夹层”，使得图形化最终的掩模板相应位置出现该子cell的图形，造成制版失败。
不同点数下圆结构的形貌（分别为8、24、64、128点）
2.软件编辑的字默认是没有宽度的，即如下图上侧的，需要经过处理形成有宽度的图形方可在掩模板上曝光出来。
版图中的两种字型
3.使用AutoCAD等其他软件绘制的文件通常图形中心点不在（0,0）点，而不同设备读取图纸时容易造成偏心，而中心点偏离过远时偶尔会出现压缩相关方向图形的问题，建议将图纸保存为*.gds格式时，将图纸中心点居中，同时确认图纸单位，默认μm。
设置选中图形坐标
4.部分软件画出的圆结构而非多边形，，圆心一个点圆周为光滑曲线，这种图形无法曝光，请使用多边形近似获得圆结构。
五、 相关简单操作（以Klayout软件为例）
1.左右镜像翻转
选中需要翻转图形→Edit→Selection→Flip Horizontally
镜像翻转
以上操作可以任意选择图形，如果是整个版图翻转，选择Edit→Layout→Flip Horizontally即可。
2.极性反转
选中需要处理的图层，隐藏其他图层→选中图形→Edit/Selection/Move to输入（0,0）将图形居中→Edit/Layer/New Layer新建图层→在新图层使用Box选项绘制任意矩形→切换Box至Select并双击矩形内部→Box Properties选中Center/Size→Center设置为（0,0）Size根据图形设置（如2.5吋版可以设置W\H=58000μm）→Edit/Layer/Boolean Operations
布尔运算反转极性
原图层为A，新图层为B，Result处创建新图层，然后OK。
3.字符转换
点击text，在text后写入字符，然后选中图层，直接在图层中放置。
选中字符→Edit/Selection/Convert to PCell→确认Basic.TEXT→再次选中有宽度的字符→Edit/Selection/Scale进行缩放。
字符转换
4.合并图层
例如将4个图层的标记合并到同一个图层里，先选中目标图层，然后直接用鼠标在图中选择需要切换图层的目标图形，按住Shift键可以多次选择图形，全部选中后，Edit→Selection→Change layer即可，合并后原图层将失去图形，图层名变灰。
合并图层
5.图形合并
有利用其他软件或自写程序获得的GDS2图纸，经常会出现小图形的密集阵列，会加大图形密度，或者是有些区域内图形实际有多层重叠但实际无法观察到，都会增加图形文件的存储空间。可以利用Merge Shapes功能合并图形，使图形结构量减少。
鼠标全选图形→Edit→Selection→Merge Shapes，即可。
不同图层的图形不可以合并。
孤立结构和Merge Shapes后图形对比
6.切换Cell
如图所示，该Layout中有三个主Cell，其中Middle是高亮状态，而需要曝光的图形在TOP里，只需右键选择TOP并选择Show As New Top即可。同时建议，提交图纸时删除多余Cell，以减小数据量。
Cell的切换