基本原理和应用：

Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。

主要应用于光学膜、各种功能性薄膜--高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜沉积等。溅射沉积的薄膜覆盖下较蒸镀的更好，粘附性和致密性也更佳。

设备技术指标：

靶枪： 5个，含一个强磁性靶枪

晶片尺寸：最大 6 英寸 

真空度：6E-8 Torr 

靶材： 常见金属与介质靶

带射频清洗功能

样品可加热至 500℃

镀膜均匀性：±3%（within 6 inch