中心开设第1期掩模制版版图设计与klayout软件使用培训

Author:系统管理员Date:2019-04-01Views:92

      应广大用户要求,中心于3月27日在特种楼2楼报告厅安排了第一期“掩模制版版图设计与klayout软件培训”课程,课程由无掩模光刻机负责人温晓镭老师主讲,围绕制版工艺简介、版图绘制说明、常用绘图说明、解决方法等展开了具体讲解,用户参与性很高,踊跃提问,温老师也耐心细致地进行了解答,本次培训取得了良好的效果。
      为了帮助更多的用户掌握klayout软件使用,经温老师同意,中心决定提供温老师此次培训课件,供相关用户查询,以后每个月均会有一次培训安排,欢迎感兴趣的用户积极参加。

 

 

微纳中心掩膜版设计与加工及Klayout使用培训-.pdf