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  • 深硅刻蚀 Deep Silicon Etching
    型号:Estrelas 100 房间:一楼洁净间 管理员:王秀霞 查看更多
  • 深反应离子刻蚀 Deep Reactive Ion Etching
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  • 飞秒激光加工系统 Femtosecond laser machining system
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  • 氟化氢释放刻蚀-HF Release Etching
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  • 二氟化氙干法刻蚀系统 XeF2 Dry Etching System
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  • 微波等离子体去胶机(Microwave Plasma Asher)
    型号:PVA TePla loN Wave10 房间:一楼洁净间 管理员:王秀霞 查看更多
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    型号:PlasmaStar 200 房间:一楼洁净间 管理员:王秀霞 查看更多
  • 临界点干燥仪(Critical point dryer)
    型号:Tousimis C 936 房间:一楼洁净间 管理员:王秀霞 查看更多
  • 探针式台阶仪 Profiler
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  • 硅基湿法清洗系统
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