中文名:电子束光刻
英文名:E-Beam Lithography
所属机组:光刻组
仪器型号:Raith Pioneer two
房间:一楼洁净间
负责人:刘文


品牌型号Raith,Pioneer two
主要功能电子束光刻技术是利用纳米电子束斑在光刻胶上扫描,改变光刻胶的显影特性,可获得纳米级分辨率的图形结构。
技术指标
套刻精度: 在高精度模式下小于±20nm
拼接精度: 在高精度模式下小于±20nm
束流: 最大至20nA
束斑: 20kV下小于1.6nm
扫描时钟频率: 6 MHZ
最大样品: 20mm×20mm
最大加速电压: 30kv
写场尺寸: 最大1000μm×1000μm