中文名:微波等离子化学气相沉积
英文名:MPCVD
所属机组:镀膜组
仪器型号:AX5350
房间:一楼洁净间
负责人:魏钰


主要功能
微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量的金刚石单晶和多晶薄膜。
技术指标
最大功率: 6 kW
反应温度: 1100℃
最大样品尺寸: 2寸
反应气压: 140 mtorr