主要功能：
原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在衬底上化学吸附并反应，从而逐层形成薄膜的一种方法。前驱体表面反应有自限性和自饱和性，可通过控制循环次数来控制膜厚。PEALD引入高活性等离子体，降低沉积温度，提升薄膜质量，提高沉积速度，扩展沉积种类，同时能清洗反应腔。
技术指标：
样品尺寸： 最大8寸
工艺温度： ＜450℃
前驱源管路： 6套独立管路
等离子体系统： 100-3000W
1.7-3MHz可调
沉积材料： 氧化硅、氮化硅、氮化钛等
均匀性： 6寸≤±3%