主要功能：

脉冲激光沉积/激光分子束外延系统，在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

技术指标：

 1）激光：KrF准分子激光（248nm）

 2）真空度：10-8 mbar

 3）电子枪：30 KeV

 4）靶托：共有五个靶位，同时生长五种不同材料

 5）控温范围：< 900℃