学习工作经历：

2023.05-至今  中国科学技术大学微纳研究与制造中心工程师

2020.07-2023.04 合肥芯碁微电子装备股份有限公司激光直写光刻设备系统工程师

2015.09-2020.07 中国科学技术大学物理化学博士学位

2011.09-2015.06 山东理工大学光信息科学与技术学士学位

技术专长：

1、光刻工艺开发，熟练掌握激光直写、接触式光刻、电子束光刻等技术，如其在光栅、波导、二维电极、微流道、MEMS传感器、量子器件及HEMT等领域的制造与优化。

2、复杂GDS图matlab程序绘制，3D曝光图绘制；

3、特殊工艺仿真。

技术成果：

[1] C.X. Wu, J. Hu, M. He, Y.Zhi and S.X. Tian, Ion momentum imaging study of the ion-molecule reaction Ar+ + O2 → Ar + O2+. Physical Chemistry Chemical Physics, 2020,22,4640

[2] C.X. Wu, J. Hu, M.M. He, and S.X. Tian, Ion Momentum Imaging Study of the Ion−Molecule Charge Exchange Reaction of Ar+ + CO2. The Journal of Physical Chemistry A, 2019, 123, 8536（cover paper）

[3] J. Hu, C.X. Wu and S.X. Tian, Note: A well-confined pulsed low-energy ion beam: Test experiments of Ar+. Review of Scientific Instruments, 2018. 89(6):066104.

[4] J.Hu, C.X. Wu, Y.Y. Zhi, J.C. Xie, M.M. He, and S.X. Tian, Stereodynamics Observed in the Reactive Collisions of Low-Energy Ar+ with Randomly Oriented O2. The Journal of Physical Chemistry Letters, 2021,12,1346

[5] J.Hu, C.X. Wu, Y.S. Ma, and S.X. Tian Collision-Energy Dependence of the Ion−Molecule Charge Exchange Reaction Ar+ + NO, The Journal of Physical Chemistry A, 2018, 122, 9171

[6] 一种激光干涉仪系统的装调及误差补偿方法，发明人：卞洪飞，蔡健，吴春晓，蔡潍，汪涛，李智，韦巍，专利号： CN202310953839.6，受理(授权)时间：2023.11.03

[7]一种基于DMD的倾斜式高速扫描的3D灰度曝光方法，发明人：吴春晓，专利号：CN202310737131.7，受理(授权)时间：2023.06.19

[8] 激光直写光刻机和自动聚焦控制方法，发明人：吴春晓，白跃，专利号：202211633554.6，受理(授权)时间：2022.12.19

[9] 曝光系统和曝光机，发明人：吴春晓，杨宇航，胡刚，卫国，专利号：202220988421.X，受理(授权)时间：2022.08.05

在研项目及获奖情况：

2021年合肥市博士后科研活动经费50万元