中文名:有机CVD
英文名:Parylene CVD
所属机组:镀膜组
仪器型号:凯瑞纳米科技, KR350GS
房间:一楼洁净间
负责人:魏钰

主要功能:

  Parylene CVD的核心原理是将固态双环聚对二甲苯(派瑞林单体)加热汽化,再经高温裂解成活性小分子,最后在常温基材表面重新聚合,形成均匀、无针孔的致密薄膜,全程无需液体中间体,沉积过程温和。

其核心应用聚焦于精密防护,包括电子元器件、医疗领域、精密零件等 。 

技术指标:

1.蒸发室:310S不锈钢耐高温腔体;参数:0-400℃,温度偏差±-3℃,电压220v;

2.冷却系统:冷阱: 双冷阱;参数:≤-90℃;-70℃一下可以镀膜工作从室温到-70℃不超过30分钟;

3.裂解管路:310S不锈钢耐高温腔体;参数:650℃-750℃,控温精度:误差<2℃-0.1℃(为确保镀膜稳定性,建议设置为<2℃);

4.真空系统:真空泵:双真空泵;参数:真空抽气速度60m³/H;极限压力0.5Pa;